光刻機用于:集成電路，半導體，光電子器件等的研制和生產。更多型號請咨詢國產光刻機，evg光刻機，浸入式光刻機。

光刻機（Mask Aligner) 又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等。常用的光刻機是掩膜對準光刻，所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工藝要經歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。Photolithography（光刻） 意思是用光來制作一個圖形（工藝）；在硅片表面勻膠，然后將掩模版上的圖形轉移光刻膠上的過程將器件或電路結構臨時“復制”到硅片上的過程。

在EUV光刻技術方面的滯后性，我國不得不從外國進口價格高昂的成品。

據統計，我國連續多年從西方進口芯片已經超過1萬億人民幣，且這個趨勢還在不斷上漲，比如去年一整年就超過了1萬五千億，可以說集成電路已經成為我國國庫公帑流失以及國防經濟安全的巨大破洞。

實驗生產芯片

所以，此次長春光機所在EUV光刻技術方面取得重大突破，其意義已經不亞于電磁彈射，甚至堪比峨眉發動機。

專家指出，相信進入十四五計劃后，中國的發展將不可阻擋，隨著國家對芯片領域大幅度投資和持續投入，相信中國的光刻機發展也將最終突破桎梏，其發展也將光明萬丈，前程似錦！半導體芯片，是信息化時代的基石，也是當今尖端制造的制高點。全球芯片制造，已經進入10納米到7納米器件的量產時代。中國自主研發的第一臺7納米刻蝕機，是芯片制造和微觀加工最核心的設備之一。它采用等離子體刻蝕技術——利用有化學活性的等離子體，在硅片上雕刻出微觀電路。7納米，相當于發絲直徑的萬分之一。這是目前人類能夠在大生產線上制造出的最小的集成電路布線間距，接近微觀加工的極限！而此前，中國內地的芯片制造，僅停留在28納米的量產水平。如今，中國芯片制造裝備，終于與世界最先進水平同步！

網友@ 靚仔集團董事長表示：“全球就只有他家能生產的出來，沒有人做的出來。而且還不賣給中國。中國出多少錢都不賣。毛利1000%都可以。這個是在芯片里面畫電路的，都是幾納米，大概是頭發絲的萬分之一大小電路，你說牛B不。”

那么，到底什么設備這么牛？

答案：光刻機

光刻機是芯片制造的核心設備之一，是制造大規模集成電路的核心裝備，芯片生產廠商要想成功地制造出芯片來，就一定要用到光刻機。

高端光刻機則可以說是全球最為精密的儀器，并有號稱“現代光學工業之花”。目前，全球僅有極少數的光刻機設備廠商能夠研制出高端光刻機，其核心技術長期被荷蘭、日本、德國等把持。

ASML一家獨大，英特爾、臺積電都得看它臉色！

過去，日本的佳能和尼康也研制光刻機。為防止過度依賴ASML，英特爾曾有意扶持佳能和尼康，無賴兩家日企不爭氣，在全球光刻機市場中的份額逐漸被ASML蠶食，佳能現在基本已放棄了光刻機業務，尼康也處于茍延殘喘中。

目前，光刻機領域的龍頭老大是荷蘭ASML，已占據了全球80%的市場份額，基本壟斷了高端光刻機（EUV光刻機）市場，且全球僅僅ASML能夠生產。

尤其在14及16 奈米制程階段，包括英特爾、三星、臺積電等各家代工廠的極紫外線光刻機都來自ASML。

為英特爾承運ASML光刻機的空橋744F

2016年，ASML獨家銷售了139臺光刻機，極紫外光刻機賣出了四臺，單臺平均售價達1.1億美元。

高度難產，一年只產12臺

由于生產EUV光刻機需要超高成本及高精尖技術，ASML年產量只有12臺，相當于每個月只能生產出一臺。即便如此，ASML在2018之前的產能也早已被訂光光。為了讓產能跟上需求，ASML目前正在快馬加鞭提升生產效率，預計到2018年可增加到24臺，2019年達到40臺產能。

截止到2017年第二季度，ASML已拿到8臺最新光刻機訂單，未交付的訂單累計27臺，其中有5臺由臺積電預訂，費款高達5.5億美元，幾乎可以購買兩架全球最大的四發雙層客機空客A380

為什么不賣給中國？

作為集成電路制造過程中最核心的設備，光刻機至關重要，芯片廠商想要提升工藝制程，沒有它萬萬不行，中國半導體工藝為啥提升不上去，光刻機被禁售是一個主要因素。

這么昂貴的設備，為什么不賣給中國呢？這就要提到《瓦森納協定》。光刻機被業界譽為集成電路產業皇冠上的明珠，研發的技術門檻和資金門檻非常高。也正是因此，能生產高端光刻機的廠商非常少，到最先進的14nm光刻機就只剩下ASML，日本佳能和尼康已經基本放棄第六代EUV光刻機的研發。

相比之下，國內光刻機廠商則顯得非常寒酸，處于技術領先的上海微電子裝備有限公司已量產的光刻機中性能最好的是90nm光刻機，制程上的差距就很大……國內晶圓廠所需的高端光刻機完全依賴進口。

這不僅使國內晶圓廠要耗費巨資購買設備，對產業發展和自主技術的成長也帶來很大不利影響--ASML在向國內晶圓廠出售光刻機時有保留條款，那就是禁止用ASML出售給國內的光刻機給國內自主CPU做代工--只要中芯國際、華力微等晶圓廠采購的ASML光刻機，雖然不影響給ARM芯片做代工，但卻不可能給龍芯、申威等自主CPU做代工、商業化量產。即便是用于科研和國 防領域的小批量生產，也存在一定風險--采用陶瓷加固封裝、專供軍用的龍芯3A1500和在黨政軍市場使用的龍芯3A2000，只能是小批量生產，而且在宣傳上 也只能含糊其辭的說明是境內流片……這很大程度上影響了自主技術和中國集成電路產業的發展。

中國的光刻機發展水平如何

2016年，清華大學召開了“光刻機雙工件臺系統樣機研發”項目驗收會，專家組對項目任務完成情況予以高度評價，并一致同意該項目通過驗收。

工件臺系統是光刻機的重要子系統，工件臺系統的運行速度、加速度、系統穩定性和系統的定位建立時間對光刻機的生產精度和效率起著至關重要的作用。本次“光刻機雙工件臺系統樣機研發”項目驗收，標志中國在雙工件臺系統上取得技術突破，但這僅僅是實現光刻機國產化萬里長征的一部分，距離打破ASML的技術壟斷還有很長的路要走。

日前，“極大規模集成電路制造裝備及成套工藝”國家科技重大專項實施管理辦公室組織專家，在中國科學院長春光學精密機械與物理研究所召開了“極紫外光刻關鍵技術研究”項目驗收會。評審專家組充分肯定了項目取得的一系列成果，一致同意項目通過驗收，認為該項目的順利實施將我國極紫外光刻技術研發向前推進了重要一步。

極紫外光刻光學技術代表了當前應用光學發展最高水平，作為前瞻性EUV光刻關鍵技術研究，項目指標要求高，技術難度大、瓶頸多，創新性高，同時國外技術封瑣嚴重

因此我們看到，中國也是取得了很大的進步的。但是中國想要趕上，絕不是一朝一夕的事，需要各類基礎領域扎實的人才，這也是最難的。

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